2019年第三届国际先进光刻技术研讨会(IWAPS 2019)征稿通知

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2019年第三届国际先进光刻技术研讨会(IWAPS 2019)征稿通知

2019年第三届国际先进光刻技术研讨会(IWAPS2019)征稿通知稿件来源:发布时间:2019-05-17第三届国际先进光刻技术研讨会()于年月日在中国南京举行。 本次大会由集成电路产业技术创新战略联盟()和中国光学学会()联合主办,中国科学院微电子研究所()承办。

本次会议延续了以往两届的风格,为来自国内外半导体工业界、学术界的资深技术专家和优秀研究人员等提供了一个技术交流平台,参会者可以就相关主题分享各自的研究成果,探讨图形化解决方案,研讨即将面临的技术挑战。   致力于发表前沿的微电子制造技术研究成果。

会议主题涵盖先进半导体制造领域中从早期的理论和实验,到工业化大规模量产的应用等内容。 包括但不局限于光刻,极紫外光刻(),量测及缺陷检测,设计工艺联合优化()与可制造性设计(),材料,器材,工艺。 接收的会议稿件择优将于《》上全文发表,并且给最佳论文作者颁发年度奖项。   国际先进光刻技术研讨和《》期刊标志由会议组委会和期刊委员会提供  投稿、参会报名连接:  摘要截止日期:年月日。

本次大会是集成电路制造领域的一次盛会,欢迎您参加本次会议!  任何问题可直接致信:。